سیلیکون در چه دمایی ذوب میشود؟
164397#29
دمای ذوب ۲۹۵۰ درجه سانتیگراد دارد و از آن به عنوان بوته ذوب آلیاژهای لانتانیوم، رنگ زرد طلایی در جواهرات و … به کار می‌رود.
تیتانیوم
123624#7
دمای ذوب: در حدود ۱۲۰–۱۳۰ درجه سانتیگراد
پلی‌اتیلن
4641562#13
بیشترین طیف تابش گرمایی در این نواحی مربوط به اجسامی با دمای بیشتر از ۱۲۲۲درجه سانتیگراد می‌باشد.
سیلیکون فوتونیک
4793896#12
سیلیکون جامد یا مذاب دمای ذخیره‌سازی بسیار بالاتری نسبت به نمک‌ها دارد و ظرفیت و کارایی بیشتری نیز دارد. این تحقیق به عنوان یک تکنولوژی ذخیره‌سازی انرژی کارآمد امکان‌پذیر است. سیلیکون قادر به ذخیره بیش از ۱ مگاژول انرژی در متر مکعب در دمای ۱۴۰۰ درجه سانتیگراد است.
ذخیره انرژی حرارتی
3824527#8
الکترولیت: الکترولیت یک حمام مذاب از کریولیت با فرمول شیمیایی Na3AlF6 و آلومینای محلول در آن است. کریولیت یک حلال خوب برای آلومینا با نقطه ذوب پایین، گران‌روی مناسب و فشار بخار کم است. چگالی آن نیز کمتر از آلومینیوم مایع (2 vs 2.3 g/cm3) است، که به جداسازی طبیعی محصول (آلومینیوم مذاب) از نمک کریولیت در پایین سلول کمک می‌کند. دمای ذوب شدن کریولیت ۱۰۱۰ درجه سانتیگراد است و یک یوتکتیک با ۱۱٪ آلومینا در دمای ۹۶۰ درجه سانتیگراد ایجاد می‌کند. در سلول‌های صنعتی نسبت کریولیت به آلومینا بین ۲ تا ۳ نگهداری می‌شود تا دمای ذوب آن بین ۹۴۰ تا ۹۸۰ درجه سانتیگراد کاهش یابد.
ذوب آلومینیوم
2421151#1
به طور طبیعی دمای ذوب سدیم کلرید خالص ۸۰۱ درجه سانتی گراد است اما در این فرایند، با افزودن مقداری کلسیم کلرید دمای ذوب تا ۵۸۷ درجه سانتی گراد کاهش می‌یابد که این روش از نظر اقتصادی و مصرف انرژی مقرون به صرفه تر است.
سلول دانز
485571#3
سدیم سیلیکات‌ها در کوره‌های نظیر کوره‌های تهیه شیشه از ذوب کردن مخلوط شن و کربنات سدیم در حدود ۱۴۵۰ درجه بدست می‌آید چون درجه حرارت تشکیل سدیم سیلیکات‌های نامحلول پایین‌تر از این درجه حرارت می‌باشد برای جلوگیری از ایجاد این سیلیکات‌ها باید در نسبت شن و ماده قلیایی در موقع ذوب کنترل و دقت کافی انجام شود ماده مذاب بدست آمده رنگی تقریباً آبی تا سبز روشن دارد. این رنگ به خاطر ناخالصی‌های موجود که کمتر از یک درصد می‌باشد و معمولاً از ترکیبات آهنی هستند ایجاد می‌شود. مواد ذوب شده در یک سیستم خنک می‌شوند و بعد در دستگاه بعدی به اندازه کافی خرد می‌گردند و در آب حل می‌گردند سپس با عمل فیلتراسیون محلول صاف شده سدیم سیلیکات‌ها بدست می‌آید. در صورتی که هدف تهیه سدیم سیلیکاتهای قلیایی باشد در موقع ذوب مقداری سود خشک نیز به کوره اضافه می‌شود یا کافی از ابتدا سیلیس را با سود ذوب می‌کنند و برای حل سدیم سیلیکاتها در صورتی که مقدار m>۲می بایست از بخار پر فشا ر استفاده نمود. البته می‌توان در صورتی که بخواهیم سدیم سیلیکات‌های خشک تهیه نماییم مواد ذوب خروجی از کوره بدون خنک شدن وارد یک سیستم می‌گردند که با مقدار مشخص آب مستقیماً سدیم سیلیکاتهای هیدراته بدست می‌آید.
متاسیلیکات سدیم
3781967#21
در نتیجه شکل‌گیری سیلیکون کاربید که در دمای ۱٬۶۴۸°C (3,000 °F) اتفاق می افتد، در حالی که لایهٔ کربن و روکش ضرایب مختلفی از انبساط حرارتی دارند، ترک‌هایی در حین سرد شدن به وجود می‌آیند. آغشته کردن قطعه کربن با tetraethyl orthosilicate و استفاده از قلم بر روی درزگیرها حفاظ بیشتری در برابر راه اکسیژن به کربن از طریق ترک‌ها مهیا می‌کند.
عایق حرارتی شاتل فضایی
68308#7
قوسی که بین الکترودهای کربن در گاز فشرده قرار می‌گیرد (حدود ۲۰atm) امکان افزایش دمای مرکز الکترود مثبت تا ۵۹۰۰ درجه سانتیگراد یعنی دما روی سطح خورشید را ممکن ساخته‌است. مشخص شده‌است که کربن در این حالت ذوب می‌شود. در ستونی از گاز و بخاری که از آن تخلیه الکتریکی عبور می‌کند، دمای باز هم بالاتری را می‌توان به دست آورد. بمباران شدید این گاز و بخار با الکترون‌ها و یون‌هایی که با میدان الکتریکی قوس شتاب گرفته‌اند دمای ستون گاز را ۶۰۰۰ تا ۷۰۰۰ درجه سانتیگراد می‌رساند. به این دلیل تقریباً تمام مواد شناخته شده در ستون قوس الکتریکی ذوب و تبخیر می‌شوند؛ و بسیاری از واکنش‌های شیمیایی که در دماهای پایین انجام شدنی نیستند، با قوس الکتریکی امکان‌پذیر می‌شوند. مثلاً میله‌های چینی دیر گداز در شعله قوس به سهولت ذوب می‌شود. برای ایجاد تخلیه قوس الکتریکی به ولتاژ زیادی احتیاج نیست با ولتاژ ۴۰ تا ۴۵ ولت بین الکترودها می‌توان قوس را به وجود آورد. از طرف دیگر جریان داخل قوس زیاد است. مثلاً حتی در قوس کوچک جریان به ۵ آمپر می‌رسد، در حالیکه در قوس‌های بزرگ که در مقیاس صنعتی به کار می‌روند جریان به صدها آمپر بالغ می‌شود.قوس الکتریکی برای روشنایی و جوشکاری بکار می‌رود.
قوس الکتریکی
5329519#1
اکسایش حرارتی سیلیکون معمولاً در دمای ۸۰۰ تا ۱۲۰۰ درجه سانتیگراد انجام می‌شود و در نتیجه لایه اکسید دمای بالا (HTO) ایجاد می‌شود. ممکن است از بخار آب (معمولاً بخار UHP) یا اکسیژن مولکولی به عنوان اکسیدکننده استفاده کنند. در نتیجه به آن اکسایش "مرطوب" یا "خشک گفته می"شود. واکنش یکی از موارد زیر است:
اکسایش حرارتی