Geräte und Werkstoffe für Plasmaätzverfahren, chemische Bedampfungsverfahren (CVD-Verfahren), Lithographie, Maskenlithographie, Masken und Fotolacke.
установки и материалы для плазменного травления, химического осаждения паров (ХОП), литографии, шаблонов для литографии, шаблонов и фоторезистов;