(8) JP 2017-66263 A 2017.4.6 【化３】 | [0] < | oO | 4 TI ö | （式中、 ｎは、１〜１０の整数であり、 Ｒは、⽔素⼜はＣ １ 〜Ｃ ４ アルキル基であり、 Ａは、Ｃ １ 〜Ｃ ４ アルキル基⼜は下記の⼀般式（２） 【化４】 (2) で表されるピペリジル基であり、かつ Ｒfは、⽔素⼜はＣ １ 〜Ｃ ４ アルキル基を表す。）で表される化合物を挙げることができ る。  ⼀般式（１）において、Ｒ及びＲfで表されるＣ １ 〜Ｃ ４ アルキル基としては、メチル 基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブ チル基、ｔｅｒｔ−ブチル基が挙げられる。  また、硬化物のＵＶ耐性をより向上させる点から、⼀般式（１）において、ｎが５〜８ の整数であり、ＲがＣ １ 〜Ｃ ４ アルキル基であり、かつＲfがＣ アルキル基で表 される構造を有するヒンダードアミン系光安定剤が好ましい。このような構造を有するヒ ンダードアミン系光安定剤として、例えば、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル− ４−ピペリジル）デカンジオアートやメチル（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４− ピペリジル）セバケート等が挙げられ、これらの混合物の使⽤が特に好ましい。  前記（Ｄ）ヒンダードアミン系光安定剤の市販品としては、例えば、ＪＦ−９５（ビス （１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート：城北化学⼯業（株 ）製）、ＪＦ−９０（ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケー ト：城北化学⼯業（株）製）、Ｋｅｍｉｓｔａｂ ２９（ビス（１，２，２，６，６−ペ ンタメチル−４−ピペリジル）デカンジオアートとメチル（１，２，２，６，６−ペンタ メチル−４−ピペリジル）セバケートとの混合物：ケミプロ化成（株）製）、ＴＩＮＵＶ ＩＮ ２９２（ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート とメチル（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケートとの混合物 ：ＢＡＳＦジャパン（株）製）等を挙げることができる。これらのヒンダードアミン系光 安定剤は、単独で使⽤してもよく、２種以上を併⽤してもよい。  前記（Ｄ）ヒンダードアミン系光安定剤の含有量は、特に限定されないが、その下限値 は、例えば、（Ａ）ポリオール１００質量部に対し、ＵＶ耐性をより向上させる点から０ ．５０質量部が好ましく、１．０質量部が特に好ましい。⼀⽅、その上限値は、例えば、 （Ａ）ポリオール１００質量部に対し、硬化物の透明性の点から５．０質量部が好ましく 、３．０質量部が特に好ましい。 【００４５】 【００４４】 【００４３】 【００４２】 【００４１】