un matØriau non magnØtique, et d’uneseconde couche 124 en un matØriau ferromagnØtique. A chacune de ses extrØmitØs, le nanopilier 114 comporte respectivement des couches infØrieure 126 et supØrieure 128 qui sont disposØes de part et d’autre du motif 118 et constituent des contacts permettant l’injectiond’un courant d’alimentationàtravers les couches 120, 122 et 124. Les matØriaux ferromagnØtiques envisagØs pour les couches magnØtiques sont le fer Fe, le cobalt Co, le nickel Ni et les alliages ferromagnØtiques comprenant au moins un de ces ØlØments (CoFeB par exemple), ainsi que les matØriaux Heusler, les oxydes ferromagnØtiques ou les semi-conducteurs ferromagnØtiques. Le matØriauferromagnØtique de la seconde couche 124 n’est pas forcØment identique àcelui de la premiŁre couche 122. La couche intermØdiaire 122 non magnØtique est une couche conductrice, rØalisØe par exemple en cuivre Cu, en or Au, etc., ou une couche isolante, rØalisØeen Al$_{2}$0 $_{3}$, MgO, SrTi0 $_{3}$, etc. Les couches 120, 122 et 124 ont une Øpaisseur comprise entre quelques dixiŁmes et quelques dizaines de nanomŁtres. Une ou plusieurs des couches 120, 122 et 124 a des dimensions latØrales rØduites entre 5 nm et 1 pm. Les autres couches peuvent Œtre Øtendues (de quelques micromŁtres àplusieurs millimŁtres). Dans le cas de la couche 124, cela permet alors la propagation des ondes de spin. Les couches infØrieure et supØrieure 126 et 128 sont rØalisØesen des matØriaux tels que le ruthØnium, le cuivre ou l’or. Ces couches possŁdent une Øpaisseur d’environ25 nm. Elles ont de prØfØrence un rayon similaire àcelui des couches constitutives du motif 118. Les moyens 116 propres àpermettre l’injection d’un courant d’alimentationàtravers le nanopilier 114 sont reprØsentØs schØmatiquement sur la figure 6 par une source de courant 130 pouvant dØlivrer soit un courant continu, soit un courant alternatif rØglable en intensitØ et en frØquence, soit les deux et des Ølectrodes 132 et 134. Ces Ølectrodes 132 et 134 permettent de connecter Ølectriquement les couches infØrieure et supØrieure 126 et 128 aux bornes de la source 130 pour l’injection du courant d’alimentationd’une part et àun moyen de mesure (non reprØsentØ)pour la dØtermination de la diffØrence de potentiel Ølectrique àla traversØe du nanopilier 114, c’est-à-dire entre les couches infØrieure et supØrieure 126 et 128, d’autre part. Alternativement les couches infØrieure ou supØrieure 126 et 128 sont rØalisØesavec un mØtal ayant la propriØtØde gØnØrerun fort effet Hall de spin, c’est-à-dire des alliages mØtalliques comportant l’un des ØlØmentssuivants : Pt, Pd, W , Ir, Bi, Au.