(10) JP 2017-66270 A 2017.4.6  ジシクロペンタジエン開環重合体の重量平均分⼦量（Ｍｗ）や分⼦量分布（Ｍｗ／Ｍｎ ）は、テトラヒドロフランを展開溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィ ー（ＧＰＣ）により測定されるポリスチレン換算値である。  前記開環重合反応により、シンジオタクチック⽴体規則性を有するジシクロペンタジエ ン開環重合体を得ることができる。開環重合反応の後に⾏う⽔素化反応において反応条件 を適切に設定すれば、通常、⽔素化反応により開環重合体のタクチシチーが変化すること はないため、このシンジオタクチック⽴体規則性を有するジシクロペンタジエン開環重合 体を⽔素化反応に供することにより、⽬的の重合体（α１）を得ることができる。なお、 開環重合体のシンジオタクチック⽴体規則性の度合いは、開環重合触媒の種類を選択する ことなどにより、調節することができる。  開環重合体の⽔素化反応は、⽔素化触媒の存在下で、反応系内に⽔素を供給することに より⾏うことができる。⽔素化触媒としては、オレフィン化合物の⽔素化触媒として公知 の均⼀系触媒や不均⼀触媒を⽤いることができる。  均⼀系触媒としては、酢酸コバルト／トリエチルアルミニウム、ニッケルアセチルアセ トナート／トリイソブチルアルミニウム、チタノセンジクロリド／ｎ−ブチルリチウム、 ジルコノセンジクロリド／ｓｅｃ−ブチルリチウム、テトラブトキシチタネート／ジメチ ルマグネシウム等の、遷移⾦属化合物とアルカリ⾦属化合物の組み合わせからなる触媒； ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、クロロヒドリドカルボニルトリス （トリフェニルホスフィン）ルテニウム、クロロヒドリドカルボニルビス（トリシクロヘ キシルホスフィン）ルテニウム、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリジンル テニウム（ＩＶ）ジクロリド、クロロトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム等の貴 ⾦属錯体触媒；等が挙げられる。  不均⼀触媒としては、ニッケル、パラジウム、⽩⾦、ロジウム、ルテニウム等の⾦属触 媒；ニッケル／シリカ、ニッケル／ケイソウ⼟、ニッケル／アルミナ、パラジウム／カー ボン、パラジウム／シリカ、パラジウム／ケイソウ⼟、パラジウム／アルミナ等の、前記 ⾦属をカーボン、シリカ、ケイソウ⼟、アルミナ、酸化チタンなどの担体に担持させてな る固体触媒が挙げられる。  ⽔素化反応は、通常、不活性有機溶媒中で⾏われる。不活性有機溶媒としては、ベンゼ ン、トルエン等の芳⾹族炭化⽔素類；ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化⽔素類；シクロ ヘキサン、デカヒドロナフタレンなどの脂環族炭化⽔素類；テトラヒドロフラン、エチレ ングリコールジメチルエーテル等のエーテル類；等が挙げられる。  不活性有機溶媒は、開環重合反応に⽤いた溶媒と同じものであってもよいし、異なるも のであってもよい。また、開環重合反応液にそのまま⽔素化触媒を添加して、⽔素化反応 を⾏ってもよい。  ⽔素化反応の反応条件は、⽤いる⽔素化触媒によっても異なるが、反応温度は通常−２ ０〜＋２５０℃、好ましくは−１０〜＋２２０℃、より好ましくは０〜＋２００℃である 。反応温度が低すぎると反応速度が遅くなりすぎる場合があり、反応温度が⾼すぎると副 反応が起こる場合がある。  ⽔素圧⼒は、通常０．０１〜２０ＭＰａ、好ましくは０．０５〜１５ＭＰａ、より好ま しくは０．１〜１０ＭＰａである。⽔素圧⼒が低すぎると反応速度が遅くなりすぎる場合 があり、⽔素圧⼒が⾼すぎると⾼耐圧反応装置等の特別な装置が必要になる。  反応時間は、所望の⽔素化率が達成されるのであれば特に限定されないが、通常０．１ 〜１０時間である。  ⽔素化反応後は、常法に従って、⽬的の重合体（α１）を回収すればよい。 【００４８】 【００４７】 【００４６】 【００４５】 【００４４】 【００４３】