सामान्यतः, निम्न विक्षेपण के लिये स्थिरविद्युत लैन्सों का प्रयोग होता है और बड़े विक्षेपण के लिये विद्युत चुम्बकीय लैन्सों का प्रयोग होता है। त्रुटियों के कारण छापे मारने की सूक्ष्मता १०० से १ मैक्रॉन तक ही होती है। इसलिये बडे ढांचों की बनावट में वेदिका को चलाया जाता है। छोटे-छोटे वर्गों में ढांचा बनाकर उन्हे जोड दिया जाता है। इस प्रणाली में अत्यन्त ही सूक्ष्म नियन्त्रण की जरूरत पडती है।

लेंस
Defects in electron-beam lithography
इलेक्ट्रॉन किरण लेखन समय
वेदिका को चलाना