इलेक्ट्रॉन किरण लेखन की दृष्टि से वाणिज्यिक उत्पादन के लिये बहुत धीमा पडता है। उदाहरण के लिये, 700 cm के सिलिकॉन वेफर के अभिमुखीकरण के लिये 7000 सैकंड तक लग जाता है। इसका मुख्य कारण है इस प्रणाली का क्रमिक होना। प्रकाशिक अश्मलेखन इसकी तुलना में कई गुना तेज होता है, क्योंकि यह सारे सतह पर समांतर कार्य करता है।

Defects in electron-beam lithography
Proximity effect
New frontiers in electron-beam lithography
इलेक्ट्रॉन किरण लेखन समय