वाणिज्यिक रूप में प्रयोग होने वाले इलेक्ट्रॉन किरण अश्मलेखन तंत्र काफी महंगे होते हैं (रु. १६ करोड से ज्यादा)। अधिकांश अनुसंधान प्रयोगों के लिये इलैक्ट्रॉन सूक्ष्मदर्शी को बदल कर इस कार्य के लिये उपयोगित किया जाता है (करीब रु. ४० लाख)। ऐसे तंत्र १० नैनोमीटर या उससे कम तक की रेखाएं बना पाती हैं।

इलेक्ट्रॉन किरण अश्मलेखन तंत्र को उनके किरण पुंज के आकार और पुंज के विक्षेपण या मोड़ने की शैली के अनुसार वर्गीकृत किया जाता है। पुराने तंत्रों में रेखापुंज प्रणाली का प्रयोग होता था, पर अब सदिश पद्वति को अपनाया जा रहा है।

इलेक्ट्रॉन किरण अश्मलेखन तंत्र
New frontiers in electron-beam lithography
इलेक्ट्रॉन स्रोत
See also