ಪ್ರಮಾಣಿತ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಫೈಬರ್‌ಗಳನ್ನು ಮೊದಲು ಒಂದು ದೊಡ್ಡ ವ್ಯಾಸದ "ಪೂರ್ವರಚಿತ ಮಾದರಿ‌" ನ್ನು ನಿರ್ಮಿಸುವ ಮೂಲಕ ಮಾಡಲಾಗುತ್ತದೆ, ಅದಕ್ಕಾಗಿ ತುಂಬ ಎಚ್ಚರದಿಂದ ವಕ್ರೀಭವನ ಸೂಚಿಯ ಫ್ರೊಫೈಲನ್ನು ನಿಯಂತ್ರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಮತ್ತು ಪೂರ್ವರಚಿತ ಮಾದರಿಯನ್ನು "ಎಳೆಯುವ" ಮೂಲಕ ಉದ್ದದ, ತೆಳ್ಳನೆಯ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಫೈಬರ್‌ಗಳನ್ನು ರಚಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಪೂರ್ವರಚಿತ ಮಾದರಿಯನ್ನು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಮೂರು ರಾಸಾಯನಿಕ ಆವಿ ತಂಗುವಿಕೆಯ ಪದ್ಧತಿಗಳಲ್ಲಿ ಮಾಡಲಾಗುತ್ತದೆ: "ಆಂತರಿಕ ಆವಿ ತಂಗುವಿಕೆ" , "ಬಾಹ್ಯ ಆವಿ ತಂಗುವಿಕೆ" , ಮತ್ತು "ಆವಿ ಅಕ್ಷೀಯ ತಂಗುವಿಕೆ" .
"ಆಂತರಿಕ ಆವಿ ತಂಗುವಿಕೆ" ಯಲ್ಲಿ, ಪೂರ್ವರಚಿತ ಮಾದರಿಯು ಸುಮಾರು ಉದ್ದದ ಒಂದು ಟೊಳ್ಳು ಗಾಜಿನ ಟ್ಯೂಬಿನಂತೆ ಇದ್ದು, ಅದನ್ನು ಸಮತಲವಾಗಿ ಇಡಲಾಗಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಚರಕಿಯಂತ್ರದ ಮೇಲೆ ಮೆಲ್ಲಗೆ ತಿರುಗುತ್ತದೆ.
ಸಿಲಿಕಾನ್ ಟೆಟ್ರಾಕ್ಲೋರೈಡ್ (SiCl) ಅಥವಾ ಜರ್ಮೇನಿಯಮ್ ಟೆಟ್ರಾಕ್ಲೋರೈಡ್‌ (GeCl) ನಂತಹ ಅನಿಲಗಳಿಗೆ ಟ್ಯೂಬಿನ ಅಂತ್ಯದಲ್ಲಿ ಆಮ್ಲಜನಕವನ್ನು ಸೇರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ನಂತರದಲ್ಲಿ ಆ ಅನಿಲಗಳನ್ನು ಬಾಹ್ಯ ಜಲಜನಕ ಜ್ವಾಲಕದಲ್ಲಿ 1900 K (1600 °C, 3000 °F) ಉಷ್ಣತೆಯಲ್ಲಿ ಬಿಸಿ ಮಾಡಲಾಗುತ್ತದೆ, ಮತ್ತು ಅದರಲ್ಲಿ ಟೆಟ್ರಾಕ್ಲೋರೈಡುಗಳು ಆಮ್ಲಜನಕದೊಂದಿಗೆ ವರ್ತಿಸಿ ಸಿಲಿಕಾ ಅಥವಾ ಜರ್ಮೇನಿಯಾ (ಜರ್ಮೇನಿಯಮ್ ಡೈಯಾಕ್ಸೈಡ್) ಕಣಗಳನ್ನು ರಚಿಸುತ್ತವೆ. ಮೊದಲು ಕೇವಲ ಅನಿಲ ಮೇಲ್ಮೈಯ ಮೇಲೆ ಮಾಡಿದಂತಲ್ಲದೇ ಈ ರಾಸಾಯನಿಕ ಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಒಂದು ಟ್ಯೂಬ್‌ನಲ್ಲಿ ಅನಿಲ ಸ್ಥಿತಿಯಲ್ಲಿ ಆಗುವಂತೆ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಯನ್ನು ರೂಪಿಸಿದಾಗ ಅದನ್ನು "ಬದಲಾಯಿಸಿದ ರಾಸಾಯನಿಕ ಆವಿ ತಂಗುವಿಕೆ" ಎಂದು ಕರೆಯಲಾಗುತ್ತದೆ.
ಅದರಲ್ಲಿನ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಕಣಗಳು ನಂತರ ಗುಂಪುಗೂಡಿ ಕಣಗಳ ಸರಪಳಿಯನ್ನು ರೂಪಿಸುತ್ತವೆ, ಮತ್ತು ಅದು ನಂತರದಲ್ಲಿ ಹೊಗೆಮಸಿಯಾಗಿ ಟ್ಯೂಬಿನ ಹೊರಮೈ ಮೇಲೆ ಸೇರುತ್ತವೆ. ಹೀಗೆ ತಳ ಸೇರುವುದಕ್ಕೆ ಅನಿಲ ಕೇಂದ್ರ ಮತ್ತು ಟ್ಯೂಬಿನ ಹೊರಮೈಗಳ ಉಷ್ಣಾಂಶಗಳ ನಡುವಿನ ದೊಡ್ಡ ವ್ಯತ್ಯಾಸ ಕಾರಣವಾಗಿದ್ದು, ಇದು ಅನಿಲವು ಕಣಗಳನ್ನು ಹೊರಕ್ಕೆ ದೂಡುವಂತೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ(ಇದನ್ನು ಥರ್ಮೋಫೋರೆಸಿಸ್ ಎಂದು ಕರೆಯುತ್ತಾರೆ). ನಂತರದಲ್ಲಿ ಟಾರ್ಚ್ ಟ್ಯೂಬಿನಲ್ಲಿ ಮೇಲಿಂದ ಕೆಳಕ್ಕೆ ಪ್ರವಹಿಸುತ್ತಾ ಸಂಗ್ರಹಗೊಳ್ಳುವ ವಸ್ತುವನ್ನು ಎಲ್ಲ ಕಡೆಗೂ ಸಮಾನಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ. ಆ ಟಾರ್ಚ್ ಟ್ಯೂಬಿನ ಕೊನೆಯನ್ನು ತಲುಪಿದ ಮೇಲೆ, ಅದನ್ನು ಟ್ಯೂಬಿನ ಪ್ರಾರಂಭಕ್ಕೆ ತರಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಸಂಗ್ರಹಗೊಂಡ ಕಣಗಳು ಕರಗಿ ಒಂದು ಘನಾಕೃತಿಯ ಪದರವನ್ನು ರಚಿಸುತ್ತವೆ. ಅಗತ್ಯವಾದಷ್ಟು ವಸ್ತುವು ಸಂಗ್ರಹಗೊಳ್ಳುವವರೆಗೆ ಈ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಪುನರಾವರ್ತಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಪ್ರತಿಯೊಂದು ಪದರಕ್ಕೂ ಅದರ ರಚನಾಂಶಗಳನ್ನು ಬದಲಾಯಿಸಬಹುದಾಗಿದ್ದು, ಈ ಮೂಲಕ ಅಂತಿಮವಾಗಿ ಹೊರಬಂದ ಫೈಬರ್‌ನ ದ್ಯುತಿತಂತು ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳ ಮೇಲೆ ಸ್ಪಷ್ಟವಾದ ನಿಯಂತ್ರಣವನ್ನು ಹೊಂದಿರಬಹುದಾಗಿದೆ.
ಬಾಹ್ಯ ಆವಿ ತಂಗುವಿಕೆ ಅಥವಾ ಆವಿಯ ಅಕ್ಷೀಯ ತಂಗುವಿಕೆಯಲ್ಲಿ ಗಾಜನ್ನು "ಜ್ವಾಲಾ ಜಲವಿಚ್ಛೇದನೆ" ಕ್ರಿಯೆಯ ಮೂಲಕ ರಚಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಈ ಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಆಮ್ಲಜಲಜನಕ ಜ್ವಾಲೆಯಲ್ಲಿ ನೀರಿನೊಡನೆ (HO) ಕ್ರಿಯೆ ನಡೆಸುವ ಮೂಲಕ ಸಿಲಿಕಾನ್ ಟೆಟ್ರಾಕ್ಲೋರೈಡ್ ಮತ್ತು ಜರ್ಮೇನಿಯಮ್ ಟೆಟ್ರಾಕ್ಲೋರೈಡ್‌ಗಳನ್ನು ಆಕ್ಸಿಡೈಸ್ ಮಾಡಲಾಗುತ್ತದೆ. ಬಾಹ್ಯ ಆವಿ ತಂಗುವಿಕೆಯಲ್ಲಿ ಗ್ಲಾಸ್‌ ಒಂದು ಘನ ದಂಡದ ಮೇಲೆ ಕೂರುತ್ತದೆ, ಮತ್ತು ಅದನ್ನು ಹೊರತೆಗೆದು ಮುಂದಿನ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗೆ ಒಳಪಡಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಆವಿ ಅಕ್ಷೀಯ ತಂಗುವಿಕೆಯಲ್ಲಿ ಒಂದು ಸಣ್ಣ "ಬೀಜ ದಂಡ" ವನ್ನು ಉಪಯೋಗಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಅದರ ತುದಿಯಲ್ಲಿ ಒಂದು ರಂಧ್ರಯುಕ್ತವಾದ ಪೂರ್ವರಚಿತ ಮಾದರಿಯನ್ನು ಸೇರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಅದರ ಉದ್ದವು ಮೂಲ ದಂಡದ ಗಾತ್ರದಿಂದೇನೂ ಮಿತಿಗೊಳಿಸಲ್ಪಟ್ಟಿರುವುದಿಲ್ಲ. ರಂಧ್ರಯುಕ್ತವಾದ ಪೂರ್ವರಚಿತ ಮಾದರಿಯನ್ನು 1800 K (1500 °C, 2800 °F) ಉಷ್ಣತೆಯಲ್ಲಿ ಕಾಯಿಸಿ ಪಾರದರ್ಶಕವಾದ, ಘನ ಪೂರ್ವರಚಿತ ಮಾದರಿಯನ್ನಾಗಿ ಮಾಡಲಾಗುತ್ತದೆ.
ಈ ಪೂರ್ವರಚಿತ ಮಾದರಿಯನ್ನು ಡ್ರಾಯಿಂಗ್ ಟವರ್ ಎಂಬ ಸಾಧನದ ಮೇಲೆ ಇಟ್ಟು ಅದರ ತುದಿಯನ್ನು ಬಿಸಿಮಾಡಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಆಪ್ಟಿಕ್ ಫೈಬರನ್ನು ಒಂದು ಎಳೆಯಂತೆ ಎಳೆಯಲಾಗುತ್ತದೆ. ಈ ಫೈಬರ್ ನ ಅಗಲವನ್ನು ಅಳತೆ ಮಾಡುವ ಮೂಲಕ ಅದರ ಒತ್ತಡವನ್ನು ನಿಯಂತ್ರಿಸಿ ಫೈಬರ್‌ನ ದಪ್ಪವನ್ನು ನಿಯಂತ್ರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.
ಕಾರ್ಯವಿಧಾನ
ಏಕ ಬಗೆಯ ಫೈಬರ್
ಇತಿಹಾಸ
UV-Vis-IR ಹೀರುವಿಕೆ