Code de la propriété intellectuelle, art. L622-1
La topographie finale ou intermédiaire d'un produit semi-conducteur traduisant un effort intellectuel du créateur peut, à moins qu'elle ne soit courante, faire l'objet d'un dépôt conférant la protection prévue par le présent chapitre. Ce dépôt ne peut intervenir ni plus de deux ans après que la topographie a fait l'objet d'une première exploitation commerciale en quelque lieu que ce soit ni plus de quinze ans après qu'elle a été fixée ou codée pour la première fois si elle n'a jamais été exploitée. Est nul tout dépôt qui ne répond pas aux conditions prévues au présent article.
<p></p>   La topographie finale ou intermédiaire d'un produit semi-conducteur traduisant un effort intellectuel du créateur peut, à moins qu'elle ne soit courante, faire l'objet d'un dépôt conférant la protection prévue par le présent chapitre.<p></p><p></p>   Ce dépôt ne peut intervenir ni plus de deux ans après que la topographie a fait l'objet d'une première exploitation commerciale en quelque lieu que ce soit ni plus de quinze ans après qu'elle a été fixée ou codée pour la première fois si elle n'a jamais été exploitée.<p></p><p></p>   Est nul tout dépôt qui ne répond pas aux conditions prévues au présent article.<p></p>
Section 1 : Dépôt
Partie législative &gt; Deuxième partie : La propriété industrielle &gt; Livre VI : Protection des inventions et des connaissances techniques &gt; Titre II : Protection des connaissances techniques &gt; Chapitre II : Produits semi-conducteurs &gt; Section 1 : Dépôt
LEGITEXT000019455528
cible
CITATION
ARRETE
JORFTEXT000018699220
Arrêté du 24 avril 2008 (V)
LEGIARTI000006280685
R622-1
cible
CITATION
CODE
LEGITEXT000006069414
Code de la propriété intellectuelle - art. R622-1 (V)