Code de la propriété intellectuelle, art. L622-2
Sont admis au bénéfice du présent chapitre : a) Les créateurs ressortissants d'un Etat partie à l'accord instituant l'Organisation mondiale du commerce ou qui ont dans un tel Etat soit leur résidence habituelle, soit un établissement industriel ou commercial, effectif et sérieux, ainsi que leurs ayants cause ; b) Les personnes répondant aux conditions précitées de nationalité, résidence ou établissement, qui procèdent dans un Etat membre ou dans un autre Etat partie, pour la première fois au monde, à l'exploitation commerciale d'une topographie non encore protégée par le présent chapitre et pour laquelle elles ont obtenu de la personne habilitée une autorisation exclusive pour l'ensemble de la Communauté économique européenne ou de l'Espace économique européen. Les personnes, autres que celles visées au paragraphe précédent, sont admises au bénéfice du présent chapitre sous réserve d'une constatation de réciprocité avec les pays dont elles sont ressortissantes ou dans lesquels elles sont établies.
<p></p>   Sont admis au bénéfice du présent chapitre :<p></p><p></p>   a) Les créateurs ressortissants d'un Etat partie à l'accord instituant l'Organisation mondiale du commerce ou qui ont dans un tel Etat soit leur résidence habituelle, soit un établissement industriel ou commercial, effectif et sérieux, ainsi que leurs ayants cause ;<p></p><p></p>   b) Les personnes répondant aux conditions précitées de nationalité, résidence ou établissement, qui procèdent dans un Etat membre ou dans un autre Etat partie, pour la première fois au monde, à l'exploitation commerciale d'une topographie non encore protégée par le présent chapitre et pour laquelle elles ont obtenu de la personne habilitée une autorisation exclusive pour l'ensemble de la Communauté économique européenne ou de l'Espace économique européen.<p></p><p></p>   Les personnes, autres que celles visées au paragraphe précédent, sont admises au bénéfice du présent chapitre sous réserve d'une constatation de réciprocité avec les pays dont elles sont ressortissantes ou dans lesquels elles sont établies.<p></p>
Section 1 : Dépôt
Partie législative &gt; Deuxième partie : La propriété industrielle &gt; Livre VI : Protection des inventions et des connaissances techniques &gt; Titre II : Protection des connaissances techniques &gt; Chapitre II : Produits semi-conducteurs &gt; Section 1 : Dépôt
source
CITATION
Accord OMC 1994-04-15, signé à Marrakech
LEGIARTI000006280693
R622-8
cible
CITATION
CODE
LEGITEXT000006069414
Code de la propriété intellectuelle - art. R622-8 (V)