In an extremely conventional manner, the oxidation consumes silicon at depth and there is swelling at the surface; the oxide 18 which is produced lifts up the edges (20, 22) of the silicon nitride layer 14. (FIG. 2).
De manière extrêmement classique, l'oxydation consomme du silicium en profondeur et il y a gonflement en surface; l'oxyde 18 qui est produit soulève les bords (20,22) de la couche de nitrure de silicium 14. (figure 2).