However, these techniques are approaching their practical limit, and line widths in the 45 nm range appear to be near the best that can be achieved with conventional design.
ومع ذلك، هذه التقنيات تقترب من الحد من الناحية العملية، وعرض خط في نطاق 45 نانومتر على ما يبدو بالقرب من أفضل ما يمكن أن يتحقق مع التصميم التقليدي.