반도체 산업폐수 정화 신기술 개발
반도체 산업폐수 정화 신기술 개발
□ 한국환경산업기술원(원장 ***)에서는 “반도체 산업폐수에서 발생하는 고농도의 N․P․F를 신속하고 효율적으로 동시 제거할 수 있는 기술을 개발”했다고 전했다.
□ 성진엔지니어링(주) *** 박사팀과 충북대학교 환경공학과 이상일 교수팀이 공동으로 개발한 이번 연구결과는 환경부(장관 이만의)와 한국환경산업기술원이 추진하는 차세대 핵심환경기술 개발사업의 지원을 받아 수행되었고, 충청북도 청주시 공단에 위치한 반도체 사업장에서 배출되는 폐수에 적용하여 장기간 처리 시설 운전을 통해 우수하고 안정적인 처리 효율을 달성하였다.
□ 반도체 산업폐수는 고농도 N․P․F 및 독성물질을 함유하고 있어 현실적인 질소제거 방안을 찾지 못하고 있는 실정이다.
○ 2003년 1월부터 배출수의 총질소(T-N) 규제가 확대 시행됨에 따라 최종 배출수의 총 질소를 60 mg/L(or 30 mg/L) 이하로 관리해야 하는 업체에서는 총 질소 처리설비에 투자 또는 고농도 폐액을 수집 후 위탁처리하고 있는 실정이다.
○ 또한, 2008년에 총질소 규제가 40mg/L, 2012년 20mg/L 등으로 강화된 것을 감안하면 지속적으로 관련규제가 강화될 전망이다.
○ 불소 역시 현재 15mg/L(일부지역 3mg/L) 규제로 인한 환경비용(폐수 및 위탁처리) 증가로 관련 업계의 원가 경쟁력을 크게 악화시키는 주요 요인으로 알려져 있다
□ 이번에 개발한 고농도 N․P․F(질소․인․불소) 동시제거 시설은 기존 시설에 비해 콤팩트한 구성을 자랑하며, 폐수 처리시간이 짧아 현장 시공성 및 공간 활용 능력이 크게 향상되었다.
반도체 산업폐수에서 발생하는 고농도의 N.P.F를 효율적으로 제거하는 기술이 개발됐다고 발표한 기관이 어디야