AIPEL(Atomic Image Projection Electron-beam Lithography)로 명명된 전자빔 리소그래피 기술은 고분해능 투과전자현미경을 이용해 옹스트롬(10분의 1나노미터) 크기의 원자 이미지를 10~100배로 확대하여 수 나노미터에서 수십 나노미터 크기의 패턴을 기판위에 형성하는 원천기술로 세계 최초이자 단 하나 뿐인 장비이다. 이 기술을 이용하여 20 나노미터급 양자점 및 양자선을 대면적 기판에 형성할 수 있는 핵심기술개발에 성공하였으며, 저명한 재료학회지인 ‘Advanced Material’에 게재됨과 동시에 중요연구 중 중요연구(Advanced in Advance)로 선정되기도 하였다(2007. 12).
AIPEL기술은 고분해능 투과전자현미경으로 원자를 10~100배 확대해 나노크기 패턴을 기판에 형성하는 세계최초이자 하나뿐인 장비로, 이로써 핵심기술개발에 성공해 저명재료학회지에 게재되었다.