전해질로 Na2SiO3을 사용하여 A1050 알루미늄 판재를 pulse 폭 2000 μsec, impulse 420 V, 400 μsec의 unipolarpulse로 플라즈마 전해 산화 코팅(plasma electrolytic oxidation coating)을 하여 산화 피막을 2, 5, 15, 30분에 따라 형성시킨다음 산화피막을 분석하였다. 표면에 형성된 산화물의 결정상은 α-alumina와 γ-alumina로서 시간에 따른 변화는 없었다. 반응 초반에는 γ-alumina가 많이 생성되었지만 시간이 갈수록 γ-alumina의 양에는 변화 없이 α-alumina가 많이 생겨남을 알수 있었다. 이런 결과는 micro plasma에 의해서 γ-alumina가 우선 생성되고, 이후 계속되는 micro plasma의 열에 의해서 α-alumina로의 전이가 일어나기 때문으로 판단된다.
이런 결과는 micro plasma에 의해 γ-alumina가 우선 생성되고, 이후 계속되는 micro plasma의 열에 의하여 α-alumina로의 전이가 일어나기 때문으로 판단된다.