라디오주파수 분말 스퍼터링 방법으로 sapphire (0001) 기판 위에 Sn을 함유한 ?-Ga2O3(?-Ga2O3 : Sn) 나노와이어를 증착하였다. 후열처리 공정의 가스 분위기가 나노와이어 형상의 변화에 미치는 영향을 연구하였다. 800oC에서 진공중 열처리 과정에서, as-grown 나노와이어는 다공성 구조로 전이하였다. 비화학양론 Ga2O3?x는 화학양론 Ga2O3로 바뀌고,Sn원자는 응집하여 나노클러스터를 형성한다. Sn 나노클러스터는 증발하여 Sn 원자의 함량은 1.31에서 0.27 at%로 감소하였다. Sn원자의 증발로 인하여 나노와이어 표면에 다수의 기공이 형성되고, 이는 ?-Ga2O3 : Sn 나노와이어의 체적대비 표면적 비율을 증가시킨다.
본 연구는 후열처리 공정의 가스 분위기가 나노와이어 형상의 변화에 미치는 영향에 대해 알아보았다.