rf-PECVD 방법에 의해서 CH4+H2 혼합가스를 이용Si-웨이퍼 위에 DLC 박막을 증착할 때, 이산화탄소나 질소등 보조가스가 증착된 박막의 결합구조와 기계적 특성에 미치는 영향을 고찰하였다. DLC 박막의 증착속도는 rf-power가증가함에 따라서 증가하지만, 보조가스의 양이 증가함에 따라서는 감소하였다. 또한, 이산화탄소(CO2) 가스가 증가함에 따라 박막내 수소 함량은 감소하였으나, sp 3 /sp 2 결합 비는 증가하였다. 질소(N2) 가스가 증가하는 경우는 수소 함량은 감소하였으나, sp 3 /sp 2 결합비 변화에 있어 경향성은 보이지 않는 것으로 확인되었다.
rf-PECVD 방법에 의해서 CH4+H2 혼합가스를 이용Si-웨이퍼 위에 DLC 박막을 증착할 때, 이산화탄소나 질소등 보조가스가 증착된 박막의 결합구조와 기계적 특성에 미치는 영향을 고찰했다.